S-MPL系列显微荧光成像系统简介
- 光致发光(photoluminescence)即PL,是用紫外、 可见或红外辐射激发发光材料而产生的发光,在半 导体材料的发光特性测量应用中通常是用激光(波 长如325nm、532nm、785nm等)激发材料(如 GaN、ZnO、GaAs等)产生荧光,通过对其荧光光谱(即PL谱)的测量,分析该材料的光学特性,如禁带宽 度等。光致发光可以提供有关材料的结构、成分及环境 原子排列的信息,是一种非破坏性的、高灵敏度的分析 方法,因而在物理学、材料科学、化学及分子生物学等 相关领域被广泛应用。
- 传统的荧光光谱仪一般采用透镜收光的方式,针对发光 非常微弱的纳米材料,即便用激光器激发,也很难获得 较好的信号。结合多年的实际测样经验,我司推出了显 微PL系统,采用显微物镜收光,较传统的荧光光谱仪其 收光效率提升了至少3个数量级,因此特别适用于传统 荧光系统难以检测到的微弱信号,另外其辅助的白光成 像功能,还可以实现微区(微米级)定位测量。
应用领域:
- 半导体材料
- 二维材料
- 纳米材料
- 薄膜材料
- 光波导器件
- LD, LED外延片
产品特点:
- 光谱范围:200-1700nm
- 光斑大小:≤10μm(325nm激光、100X物镜)
- 光谱分辨率:优于0.1nm
- 白光成像分辨率:亚微米级
- 激光器:266nm、325nm、360nm、405nm、488n- m、510nm、532nm、633nm、785nm等可选
- 样品台:手动/电动可选
- 采谱模式:单点扫描/线扫描可选
S-MPL系列显微荧光成像系统系统功能:
- 微区PL测量
- 可同时配置多路激光器
- 自由光路耦合,保障大光效率
- 显微光路设计,保障大激发、收集效率
- 高精度位移台,实现微米级定位测量
扩展功能:
- 微区电致发光(EL)测量
- 荧光寿命测量:ps-ms量级
- 自动Mapping功能:50mm×50mm行程,步进精度 1μm
- 光电流谱(成像)测量
- 光电材料响应度测试
- 变温附件:77K-600℃/4K、10K超低温
S-MPL系列显微荧光系统
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